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J-GLOBAL ID：200903035095241801

金属被膜の製造方法

Inventor： 小野 博信 ,  橋本 高明 ,  島 昌秀 ,  杉尾 暢文
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006016583
Publication number (International publication number)：2007200660
Application date： Jan. 25, 2006
Publication date： Aug. 09, 2007
Summary：

【課題】 本発明は、比抵抗値が低く導電性被膜として好適な金属被膜を形成し得る新規な金属被膜の製造方法を提供するものである。従来、低温時での還元が困難であり抵抗値が高い被膜となりやすかった。かかる低温時の還元処理を克服する技術を提供するものである。【解決手段】 本発明は、金属ナノ微粒子分散体を基板に塗布した後、水素ガスなどの還元性雰囲気中、1気圧より高い圧力下にて焼成することで、金属皮膜を製造する方法である。焼成温度は、50〜200°Cで行うことが好ましい。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

金属ナノ微粒子分散体を基板に塗布した後、還元性雰囲気中、1気圧より高い圧力下にて焼成することを特徴とする金属被膜の製造方法。

IPC (3)：

H01B 13/00 ,  B05D 3/02 ,  C23C 26/00

FI (3)：

H01B13/00 503A ,  B05D3/02 Z ,  C23C26/00 B

F-Term (29)：

4D075BB28Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA22 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB02 ,  4D075DB06 ,  4D075DB07 ,  4D075DB13 ,  4D075DB53 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075EA02 ,  4D075EA10 ,  4D075EB01 ,  4D075EB57 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044BA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044BB01 ,  4K044CA24 ,  4K044CA29 ,  4K044CA44 ,  4K044CA53

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 金属被膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-326252   Applicant：旭化成株式会社

Cited by examiner (2)

• 金属微粒子分散体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-190914   Applicant：旭化成株式会社
• 金属被膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-326252   Applicant：旭化成株式会社