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J-GLOBAL ID：200903035133313897

プラズマ処理装置

Inventor：
吉木 宏之

About 吉木 宏之


Applicant, Patent owner：
株式会社ダイヘン

About 株式会社ダイヘン


Agent (1)： 中井 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996358896
Publication number (International publication number)：1998189295
Application date： Dec. 27, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 被処理物に対して広い面積に亘って均一にプラズマ処理することができ、しかもマイクロ波電力使用効率を従来例に比較して改善することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 マイクロ波電源1と、マイクロ波電源から出力されたマイクロ波を導入する方形導波管4Aと、側壁に細長い窓部7cを設けて窓部に対向するように被処理物13が配置されたプラズマ処理室7とを備え、方形導波管に導入されたマイクロ波が窓部を通して放射することによりプラズマを生成させ、被処理物を対して所定の処理を行う。ここで、細長い終端開口部6aを有し、終端開口部が窓部に対向するようにマイクロ波放射器6を配置し、方形導波管とマイクロ波放射器との間に整合用変成器5を設ける。
Claim (excerpt)：
マイクロ波電源と、前記マイクロ波電源から出力されたマイクロ波を導入する方形導波管と、側壁に細長い窓部を設けて前記窓部に対向するように被処理物が配置されたプラズマ処理室とを備え、前記方形導波管に導入されたマイクロ波が前記窓部を通して放射することによりプラズマを生成させ、前記被処理物を対して所定の処理を行うプラズマ処理装置において、細長い終端開口部を有し、前記終端開口部が前記窓部に対向するようにマイクロ波放射器を配置し、前記方形導波管とマイクロ波放射器との間に整合用変成器を設けたプラズマ処理装置。
IPC (5)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/205
FI (5)：
H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-217287   Applicant：株式会社ダイヘン
  • マイクロ波励起光源装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-079807   Applicant：下代雅啓, 株式会社ダイヘン

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