成膜粒子分布測定装置

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000076541
Publication number (International publication number)：2001262340
Application date： Mar. 17, 2000
Publication date： Sep. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】基板上に一様な膜を形成するために必要とされる成膜粒子フラックスの空間分布を、高精度でかつ短時間に測定することができる成膜粒子分布測定装置を提供する。【解決手段】成膜粒子分布測定装置は、成膜粒子源20から放出される成膜粒子フラックス20aを測定面1a上に堆積させてその膜の厚さを測定する水晶振動子膜厚モニタ1と、膜厚モニタ1を3軸方向に移動させる駆動装置2とを有している。膜厚モニタ1には支軸3aを介してシャッタ3が回動自在に取り付けられている。制御装置4は、膜厚モニタ1を二次元平面内の複数の測定位置に配置するよう駆動装置2を制御するとともに、各測定位置にて膜厚モニタ1の測定面1aを所定の時間にわたって開放するようシャッタ3を制御する。これにより、各測定位置にて膜厚モニタ1の測定面1a上に形成された膜の厚さが測定され、その測定結果に基づいて成膜粒子フラックス20aの空間分布が算出される。

Claim (excerpt)：

成膜粒子源から放出される成膜粒子フラックスを受け入れる測定面を有し、当該測定面上に形成された膜の厚さを測定する膜厚測定器と、前記膜厚測定器を前記成膜粒子源に対向する二次元平面内で移動させる駆動装置と、前記膜厚測定器の前記測定面を前記成膜粒子フラックスに対して所定の時間にわたって開放するシャッタと、前記膜厚測定器を前記二次元平面内の複数の測定位置に配置するよう前記駆動装置を制御するとともに、前記各測定位置にて前記膜厚測定器の前記測定面を所定の時間にわたって開放するよう前記シャッタを制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記各測定位置にて前記膜厚測定器の前記測定面上に形成された膜の厚さを測定し、その測定結果に基づいて前記成膜粒子源から放出される成膜粒子フラックスの空間分布を算出することを特徴とする成膜粒子分布測定装置。

IPC (3)：

C23C 14/52 , G01N 15/00 , G01B 17/02

FI (3)：

C23C 14/52 , G01N 15/00 Z , G01B 17/02 A

F-Term (9)：

2F068AA28 , 2F068BB15 , 2F068CC05 , 2F068FF23 , 2F068LL12 , 4K029DA00 , 4K029DA12 , 4K029EA01 , 4K029EA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-219582
薄膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-277601 Applicant：株式会社シンクロン
特開平4-157154

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