Pat
J-GLOBAL ID:200903035219610061
磁気抵抗効果型磁気ヘッド及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998299902
Publication number (International publication number):2000123331
Application date: Oct. 21, 1998
Publication date: Apr. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 磁気シールド部材の耐摩耗性と耐熱性とを向上させる。【解決手段】 磁気抵抗効果素子4(MR素子4)の磁気シールド部材となる軟磁性薄膜6をCo系アモルファス材料によって形成する。また、この軟磁性薄膜6を形成する際には、開口部で逆テーパー型となるレジスト膜48を用いて、リフトオフ法により形成する。この際に、第1のレジスト膜48bと、第1のレジスト膜48bよりも開口部で突出した第2のレジスト膜48cを用いて、リフトオフ法により形成してもよい。
Claim (excerpt):
一対の磁気シールド部材間に磁気抵抗効果素子が設けられた磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、上記一対の磁気シールド部材のうちの少なくとも一方は、Co系アモルファス材料により形成されたことを特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッド。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (6):
5D034BA02
, 5D034BA03
, 5D034BA16
, 5D034BB08
, 5D034CA01
, 5D034DA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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複合型磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-353506
Applicant:日本ビクター株式会社
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磁気抵抗効果型ヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-309195
Applicant:三洋電機株式会社
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特開昭59-098318
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磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-064663
Applicant:富士通株式会社
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磁気変換素子、薄膜磁気ヘッド及び磁気変換素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-276231
Applicant:ティーディーケイ株式会社
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特開昭59-098318
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特開昭59-098318
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