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J-GLOBAL ID:200903035267904166

メソポーラスシリカの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003074912
Publication number (International publication number):2004277270
Application date: Mar. 19, 2003
Publication date: Oct. 07, 2004
Summary:
【課題】広い領域にわたり、規則的なヘキサゴナル構造を有するメソポーラスシリカを容易に製造する方法を提供する。【解決手段】細孔配置がヘキサゴナル構造のメソポーラスシリカの製造方法であって、(1)シリカ源を含む水溶液及びヘキサゴナル構造を形成し得る界面活性剤を含む水溶液を混合する工程、(2)得られた混合液のpHを8〜12に調整する工程、(3)pH調整した混合液を昇温速度0.5〜2°C/分で100〜125°Cまで加熱した後、当該温度で12〜120時間保持して結晶化する工程、及び(4)上記工程(3)で得られた生成物から界面活性剤を除去する工程を含む製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
細孔配置がヘキサゴナル構造のメソポーラスシリカの製造方法であって、 (1)シリカ源を含む水溶液及びヘキサゴナル構造を形成し得る界面活性剤を含む水溶液を混合する工程、 (2)得られた混合液のpHを8〜12に調整する工程、 (3)pH調整した混合液を昇温速度0.5〜2°C/分で100〜125°Cまで加熱した後、当該温度で12〜120時間保持して結晶化する工程、及び (4)上記工程(3)で得られた生成物から界面活性剤を除去する工程 を含む製造方法。
IPC (1):
C01B37/02
FI (1):
C01B37/02
F-Term (5):
4G073BC02 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB01 ,  4G073FB33 ,  4G073FC18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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