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J-GLOBAL ID：200903035274632600

プラズマ発生装置

Inventor： 津田 睦 ,  斧 高一 ,  土橋 祐亮 ,  花崎 稔 ,  米村 俊雄 ,  奥 康二 ,  中隈 信治
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997262047
Publication number (International publication number)：1999102799
Application date： Sep. 26, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 均一な分布の高密度なプラズマを、広い動作ガス圧力範囲のもとで、安定に発生・維持することを可能とするようなプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】 マイクロ波を導波する導波管5と、この導波管5が接続され、放電ガスを供給する手段としてのガス供給口1aおよび真空排気手段(図示せず)に接続される排気口1bを備えた真空容器1と、この真空容器1に挿入された管状の誘電体部材からなる誘電体管10と、この誘電体管10に上記マイクロ波を放射する手段であるアンテナ9を備えたプラズマ発生装置とする。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を導波する導波管と、この導波管が接続され、放電ガスを供給する手段および真空排気手段を備えた真空容器と、この真空容器に挿入された管状あるいは棒状の誘電体部材と、この誘電体部材に上記マイクロ波を放射する手段を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (4)：

H05H 1/46 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭55-131175
  
• 特開昭63-051098
  
• 特開平4-136177
  
• プラズマプロセス装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-100498   Applicant：住友金属工業株式会社