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J-GLOBAL ID：200903035388620807

酸素ガス吸収剤およびその製造法

Inventor： 足立 貴義 ,  内野 誠 ,  安藤 紳一
Applicant, Patent owner： 大陽東洋酸素株式会社
Agent (1)： 大石 征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000167735
Publication number (International publication number)：2001340754
Application date： Jun. 05, 2000
Publication date： Dec. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】 有機-無機複合錯体からなり、かつ酸素ガスを選択的に吸収するが、窒素ガスはほとんど吸収しない錯体からなる酸素ガス吸収剤を提供すること、およびその酸素ガス吸収剤の工業的な製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とから合成される錯体からなる酸素ガス吸収剤である。この酸素ガス吸収剤は、銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とを、両者を溶解する溶媒中で反応させることにより錯体を得、ついでその錯体を加熱処理することにより製造される。

Claim (excerpt)：

銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とから合成される錯体からなることを特徴とする酸素ガス吸収剤。

IPC (4)：

B01J 20/22 ,  C07C 51/41 ,  C07C 63/307 ,  C07F 1/08

FI (4)：

B01J 20/22 A ,  C07C 51/41 ,  C07C 63/307 ,  C07F 1/08 B

F-Term (38)：

4G066AA13A ,  4G066AA15A ,  4G066AA15B ,  4G066AA43A ,  4G066AB03A ,  4G066AB03B ,  4G066AB07A ,  4G066AB24B ,  4G066BA22 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA37 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4G066GA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB99 ,  4H006AC47 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BC51 ,  4H006BE12 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS30 ,  4H006BS70 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB99 ,  4H048AC47 ,  4H048BB14 ,  4H048BB31 ,  4H048BC51 ,  4H048BE12 ,  4H048VA20 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 多孔質錯体とその製造法および吸着剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-138328   Applicant：大陽東洋酸素株式会社