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J-GLOBAL ID：200903035430731258

微細気泡を発生する方法及び装置

Inventor： 柴崎 光弘 ,  吉田 宏 ,  堀井 清之
Applicant, Patent owner： ケミカルグラウト株式会社
Agent (1)： 高橋 敏忠 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995006421
Publication number (International publication number)：1996192035
Application date： Jan. 19, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 シンプルな構成にて効率的に微細気泡を発生させることが出来る方法及び装置の提供を目的としている。【構成】 環状のスリットを有する流路に水を流す工程を有し、該環状のスリットの下流側部分には下流側に向かって徐々に曲率半径が増加する様な曲面が形成されており、前記環状スリットに連通する空気溜めを介して水が流れている流路に高圧空気を供給する工程と、供給された高圧空気が前記曲面から剥離する際に微細気泡となる工程とからなっている。

Claim (excerpt)：

環状のスリットを有する流路に水を流す工程を有し、該環状のスリットの下流側部分には下流側に向かって徐々に曲率半径が増加する様な曲面が形成されており、前記環状スリットに連通する空気溜めを介して水が流れている流路に高圧空気を供給する高圧空気供給工程と、供給された高圧空気が前記曲面から剥離する際に微細気泡となる微細気泡生成工程、とを含むことを特徴とする微細気泡を発生する方法。

IPC (4)：

B01F 3/04 ,  B01F 5/02 ,  B08B 3/02 ,  C02F 3/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-121625
  
• 特開昭63-262339
  
• 気液接触装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-024999   Applicant：堀井清之