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J-GLOBAL ID:200903035646303137
シリコン膜形成用組成物およびシリコン膜の形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000069314
Publication number (International publication number):2001262058
Application date: Mar. 13, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 シクロペンタシランを出発物質として溶液法により、支持体上に均一な膜厚と鏡面を持つシリコン膜を短時間で形成するための組成物および方法を提供する。【解決手段】 シクロペンタシランおよびラジカル開始剤を含有する溶液組成物を調製し、この溶液組成物を、場合により紫外線照射に付したのち、支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜を加熱してシリコン膜を生成せしめることによる、支持体上にシリコン膜を形成する。
Claim (excerpt):
(1)下記式(A)【化1】で表される化合物およびラジカル発生剤を含有することを特徴とするシリコン膜形成用溶液組成物。
IPC (6):
C09D183/00
, C08G 77/60
, C08J 7/04 CEZ
, H01L 31/04
, H01L 31/10
, C08L101:00
FI (6):
C09D183/00
, C08G 77/60
, C08J 7/04 CEZ Z
, C08L101:00
, H01L 31/04 V
, H01L 31/10 A
F-Term (33):
4F006AA39
, 4F006AA40
, 4F006AB39
, 4F006AB67
, 4F006BA06
, 4F006CA05
, 4F006CA08
, 4F006EA03
, 4F006EA05
, 4J035KA01
, 4J035LB01
, 4J035LB20
, 4J038DL011
, 4J038KA03
, 4J038LA02
, 4J038NA01
, 4J038NA23
, 4J038PA17
, 4J038PA19
, 4J038PC02
, 4J038PC03
, 4J038PC08
, 5F049MA01
, 5F049MB05
, 5F049PA05
, 5F049PA11
, 5F049PA18
, 5F049PA20
, 5F051AA05
, 5F051CA06
, 5F051CA20
, 5F051CA34
, 5F051CA40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
シリコン膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-054004
Applicant:昭和電工株式会社
-
α,ω-ジヒドロポリシラン類の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-069749
Applicant:財団法人相模中央化学研究所
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