金属基体の燐酸塩処理浴及び方法、その浴の調製のための濃縮物、並びにその浴及び方法による処理を施された金属基体

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：若林忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997236860
Publication number (International publication number)：1998183365
Application date： Sep. 02, 1997
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は金属基材の燐酸塩処理用の浴と方法、ならびに該浴と方法によって該処理をうけた金属基材に関する。【解決手段】 pHが1ないし5.5で燐酸塩処理浴の標準的な成分からなる本発明の浴は約0.3ないし約25g/l、好ましくは0.5ないし10g/lの亜鉛イオン、5ないし約50g/l、好ましくは8ないし30g/lの燐酸イオン、および約0.01ないし約10g/l、好ましくは0.03ないし3g/lの式(I)または(II)の一つによって表わされる三価のコバルト錯体、を含むことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

亜鉛で、あるいは亜塩と鉄、ニッケル、アルミニウム、マンガンのような他の金属との合金で被覆されることもある鋼をベースとするか、あるいはさらにアルミニウムまたはアルミニウム合金をベースとする金属基体用の燐酸塩処理浴において、pHが1ないし5.5であり、燐酸塩処理浴の標準的な成分よりなるものであって、約0.3ないし約25g/l、好ましくは0.5ないし10g/lの亜鉛イオン、5ないし約50g/l、好ましくは8ないし30g/lの燐酸イオン、および約0.01ないし約10g/l、好ましくは0.03ないし3g/lの下記式の一つで表わされる三価コバルト錯体よりなる浴。[Co(配位子)n]c (I)[Co(配位子)nZp]c (II){式中nとpは、1ないし6の整数であるが但し、式(II)の場合はn+p≦6であり、cは、錯体の電荷を表わし、従って配位子とZの電荷によって正または負になることがあり、配位子は、NO2、CN、CO3およびSO3よりなる群のイオン、蓚酸イオン、酢酸イオン、クエン酸イオン、グルコン酸イオン、酒石酸イオンおよびアセチルアセトナートイオンよりなる群のイオン、および式N(R1,R2,R3)(式中R1、R2およびR3は互に独立してH、C1ないしC6の炭素化物基、中でも特にアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ、アルキルアミンおよびヒドロキシルアミン基よりなる基の中で選ばれる)の化合物ならびにカルボン酸またはアミノカルボン酸およびそれらの塩の中から選ばれ、そしてZは、Cl、Br、F、I、OH、NO3、SCN、PO4、SO4、S2O3、MoO4、SeO4およびH2Oよりなる群の中で選ばれ、所与の錯体は互いに異なる、一個ないし数個の配位子および一個ないし数個のZを含むことができると理解される}

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

亜鉛系めっき材料の黒色化処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-226632 Applicant：日本パーカライジング株式会社
コバルト化成皮膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-300471 Applicant：ザ・ボーイング・カンパニー
特開平3-031484

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