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J-GLOBAL ID：200903035694731442

流体を滴下させる装置と、この方法

Inventor：
メキアス,カーダー

About メキアス,カーダー


Applicant, Patent owner：
エフエスアイ インターナショナル

About エフエスアイ インターナショナル


Agent (9)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  舘石 光雄 ,  小野塚 薫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  中村 壽夫 ,  加藤 勉 ,  村越 祐輔 ,  小宮 知明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003532398
Publication number (International publication number)：2005504908
Application date： Sep. 26, 2002
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：
流体を滴下させる装置と、この方法である。滴下装置は、単一のコントロールチャンバ(4)内に1つまたは複数のプロセスチャンバ(8)を備えており、適当な弁操作を行うとともに、コントロールチャンバに対してコントロール流体を加えたり、取り除くようにすることで、プロセスチャンバの容量を増大させたり減少させる。この結果、流体を滴下させるように、プロセスチャンバ(8)に流体を流出入させるが、特に、この流量を精密に制御できるようにする。
Claim (excerpt)：
マイクロエレクトロニックデバイスまで流体を滴下させる装置であって、コントロールチャンバ内に収容されるプロセスチャンバと、流体リザーバーと流通するように前記プロセスチャンバに設けられた入口と、前記マイクロエレクトロニックデバイスの製造装置と流通するように前記プロセスチャンバに設けられた出口とを有し、さらに、前記コントロールチャンバ内のコントロール流体の流量または圧力を用いて、前記プロセスチャンバの容量を制御可能にしたことを特徴とする装置。
IPC (4)：
F04B43/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/027
FI (7)：
F04B43/12 A ,  F04B43/12 J ,  F04B43/12 T ,  F04B43/12 Z ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  H01L21/30 564Z
F-Term (16)：
3H077AA01 ,  3H077CC04 ,  3H077CC08 ,  3H077DD15 ,  3H077EE05 ,  3H077EE15 ,  3H077FF07 ,  3H077FF08 ,  3H077FF12 ,  4F042BA02 ,  4F042CB07 ,  4F042CB19 ,  4F042CB24 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046JA16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 薬液ポンプ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-182173   Applicant：シーケーディ株式会社
  • 特開昭56-032086
  • 流体ポンプ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-192130   Applicant：アイシン精機株式会社
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