流体を滴下させる装置と、この方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 舘石光雄 , 小野塚薫 , ▲高▼ 昌宏 , 中村壽夫 , 加藤勉 , 村越祐輔 , 小宮知明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003532398
Publication number (International publication number)：2005504908
Application date： Sep. 26, 2002
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

流体を滴下させる装置と、この方法である。滴下装置は、単一のコントロールチャンバ(4)内に1つまたは複数のプロセスチャンバ(8)を備えており、適当な弁操作を行うとともに、コントロールチャンバに対してコントロール流体を加えたり、取り除くようにすることで、プロセスチャンバの容量を増大させたり減少させる。この結果、流体を滴下させるように、プロセスチャンバ(8)に流体を流出入させるが、特に、この流量を精密に制御できるようにする。

Claim (excerpt)：

マイクロエレクトロニックデバイスまで流体を滴下させる装置であって、コントロールチャンバ内に収容されるプロセスチャンバと、流体リザーバーと流通するように前記プロセスチャンバに設けられた入口と、前記マイクロエレクトロニックデバイスの製造装置と流通するように前記プロセスチャンバに設けられた出口とを有し、さらに、前記コントロールチャンバ内のコントロール流体の流量または圧力を用いて、前記プロセスチャンバの容量を制御可能にしたことを特徴とする装置。

IPC (4)：

F04B43/12 , B05C11/08 , B05C11/10 , H01L21/027

FI (7)：

F04B43/12 A , F04B43/12 J , F04B43/12 T , F04B43/12 Z , B05C11/08 , B05C11/10 , H01L21/30 564Z

F-Term (16)：

3H077AA01 , 3H077CC04 , 3H077CC08 , 3H077DD15 , 3H077EE05 , 3H077EE15 , 3H077FF07 , 3H077FF08 , 3H077FF12 , 4F042BA02 , 4F042CB07 , 4F042CB19 , 4F042CB24 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046JA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

薬液ポンプ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-182173 Applicant：シーケーディ株式会社
特開昭56-032086
特開昭56-032086

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