露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993141016
Publication number (International publication number)：1994349701
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】スリットスキャン露光方式で空間コヒーレンスの高い光を露光光として使用する場合に、スペックルパターンによる照度むらを小さくする。【構成】照明領域15に対してレチクルRを走査方向SRに走査し、照明領域15と共役な露光領域16に対してウエハWを走査方向SWに走査し、レチクルRのパターンを逐次ウエハW上に露光する。エキシマレーザ光源1から射出されるレーザビームLB0 の空間コヒーレンスは水平方向(H方向)に高いため、その水平方向と照明領域15の走査方向SRとを共役にして、空間コヒーレンスの高い方を走査方向SRとする。

Claim (excerpt)：

所定の空間コヒーレンスを有する照明光を発生する光源と、前記照明光で所定形状の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域に対して相対的に転写用のパターンが形成されたマスク及び感光性の基板を同期して走査する相対走査手段とを有し、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に露光する露光装置において、前記照明光の空間コヒーレンスの高い方向を前記所定形状の照明領域と前記マスクとの相対的な走査方向と同一にしたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 S

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開平1-235289
特開平1-259533
特開平1-257327

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