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J-GLOBAL ID：200903035890026536

ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法

Inventor：
一ノ瀬 剛

About 一ノ瀬 剛


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005070971
Publication number (International publication number)：2006253572
Application date： Mar. 14, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：
【課題】 ステージ装置の制御精度の低下を防止することができるステージ装置、当該ステージ装置上の基板にマスクのパターンを露光精度の悪化を招かずに転写することができる露光装置、並びに当該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 ウェハステージWSTは、ウェハステージ本体26と自重キャンセラ56とを含んで構成されており、ウェハステージ本体26は自重キャンセラ56の支持によりベース盤21上で移動可能に構成されている。同様に、計測ステージWSTは、自重キャンセラ57の支持によってベース盤21上で移動可能に構成されている。自重キャンセラ56,57は、ウェハステージWSTの重心の位置を調整するためのアダプタ60を介してウェハステージ本体26及び計測ステージ本体46にそれぞれ取り付けられている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
所定の基準面上で移動可能に構成されたステージ本体と、当該ステージ本体に取り付けられ前記ステージ本体を前記所定の基準面上に支持する支持機構とを備えるステージ装置において、 前記支持機構を含む前記ステージ本体の重心の位置を調整する調整部材を設けたことを特徴とするステージ装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68
FI (3)：
H01L21/30 503A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 K
F-Term (9)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA57 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13 ,  5F046CC17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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