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J-GLOBAL ID：200903035919344796

フォトニック結晶及びその製造方法

Inventor： 河本 邦仁 ,  増田 佳丈 ,  原田 昭雄 ,  大川 隆
Applicant, Patent owner： 河本 邦仁 ,  大研化学工業株式会社
Agent (1)： 三木 久巳 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001151248
Publication number (International publication number)：2002341161
Application date： May. 21, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 静電引力よりも強い化学結合力を利用することにより、強固な3次元構造を有するフォトニック結晶を実現する。【解決手段】 本発明に係るフォトニック結晶は、光波長程度の直径を有した粒子に官能基を結合させて官能基修飾粒子を形成し、官能基間の化学結合により多数の官能基修飾粒子を3次元結合させて結晶体を構成し、この結晶体の格子定数が光波長程度であることを特徴としている。このフォトニック結晶の製造方法には2種類ある。第1の方法は、自己組織膜を利用して第1官能基修飾粒子層と第2官能基修飾粒子層を官能基間の化学結合により交互に積層してゆく方法である。第2の方法は、第1官能基修飾粒子と第2官能基修飾粒子を溶媒に分散させ、両官能基間の化学結合により粒子を核成長させてゆく方法である。

Claim (excerpt)：

光波長程度の直径を有した粒子に官能基を結合させて官能基修飾粒子を形成し、官能基間の化学結合により多数の官能基修飾粒子を3次元結合させて結晶体を構成し、この結晶体の格子定数が光波長程度であることを特徴とするフォトニック結晶。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 Z

F-Term (3)：

2H047PA00 ,  2H047QA01 ,  2H047QA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 微粒子配列体とその製造方法及びこれを用いたデバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-011023   Applicant：松下電器産業株式会社
• 超微粒子を有する分子及びその構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-213646   Applicant：三井東圧化学株式会社
• 半導体超微粒子を架橋する方法および半導体超微粒子架橋材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-268625   Applicant：三井東圧化学株式会社
• 金属微粒子修飾基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-161124   Applicant：三ツ星ベルト株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 「セラミックス微粒子の三次元組織化」