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J-GLOBAL ID:200903035924569054

質量分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999146848
Publication number (International publication number):2000340169
Application date: May. 26, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】真空度の異なる2つの空間を仕切る隔壁上に設けられたオリフィスを、イオンが散乱されることなくスムーズに通過できるような質量分析装置を提供する。【解決手段】イオンの飛行軌道上に加速電場、次いで減速電場を設け、イオンに加速、次いで減速を行なわせるようにした。前記加速電場及び減速電場が設けられる場所は、真空度の異なる2つの空間を仕切る隔壁上に設けられたオリフィスの前段及び後段である。
Claim (excerpt):
イオンの飛行軌道上に加速電場、次いで減速電場を設け、イオンに加速、次いで減速を行なわせるようにしたことを特徴とする質量分析装置。
IPC (2):
H01J 49/40 ,  G01N 27/62
FI (2):
H01J 49/40 ,  G01N 27/62 K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 質量分析計
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-081186   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開平3-269942

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