顕微鏡

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：杉村興作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001084823
Publication number (International publication number)：2002286641
Application date： Mar. 23, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【課題】バックグラウンド信号の影響を簡単に除去でき、超解像性および画質の優れた顕微鏡画像が得られる顕微鏡を提供する。【解決手段】少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子で染色したサンプル7に、上記分子を基底状態から第1の励起状態へ遷移させる第1の光λ1と、上記分子を第1の励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2の励起状態へ遷移させる第2の光λ2とを、少なくとも一部分重ね合わせるように同時に照射したときに検出される発光量から、第2の光λ2のみを照射したときに検出される発光量を差し引いて、第2の光λ2の照射によってサンプル7から副次的に発生するバックグラウンド信号の影響を除去し、超解像性および画質の優れた顕微鏡画像を得る。

Claim (excerpt)：

少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子で染色したサンプルを観察する顕微鏡であって、上記分子を基底状態から第1の励起状態へ遷移させる第1の光を発生する第1の光源と、上記分子を上記第1の励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2の励起状態へ遷移させる第2の光を発生させる第2の光源と、上記第1の光および上記第2の光の上記サンプルへの照射領域を少なくとも一部分重ね合わせる光学系と、上記サンプルからの発光を検出する検出光学系とを有し、上記第1の光および上記第2の光を上記サンプルへ少なくとも一部分重ね合わせるように照射したときに上記サンプルから検出される発光量と、上記第2の光のみを上記サンプルに照射したときに上記サンプルから検出される発光量との差を検出するよう構成したことを特徴とする顕微鏡。

IPC (3)：

G01N 21/64 , G02B 21/00 , G02B 21/06

FI (4)：

G01N 21/64 E , G01N 21/64 F , G02B 21/00 , G02B 21/06

F-Term (35)：

2G043DA02 , 2G043DA06 , 2G043EA01 , 2G043FA02 , 2G043FA06 , 2G043GA01 , 2G043GA07 , 2G043GB01 , 2G043GB19 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA09 , 2G043HA15 , 2G043JA04 , 2G043KA02 , 2G043KA03 , 2G043KA05 , 2G043KA09 , 2G043LA02 , 2G043LA03 , 2G043MA01 , 2G043MA04 , 2G043NA01 , 2G043NA06 , 2H052AA07 , 2H052AA09 , 2H052AC04 , 2H052AC11 , 2H052AC12 , 2H052AC14 , 2H052AC15 , 2H052AC27 , 2H052AC34 , 2H052AF14 , 2H052AF17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

顕微鏡の観察方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-255444 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開昭57-186170
蛍光分析計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-213067 Applicant：株式会社島津製作所

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

2波長Dip分光法を応用したファーフィールド超解像顕微鏡の開発

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