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J-GLOBAL ID：200903036202413358

イットリア薄膜及びその製造方法

Inventor： 西出 利一
Applicant, Patent owner： 学校法人日本大学
Agent (1)： 福村 直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000162634
Publication number (International publication number)：2001342017
Application date： May. 31, 2000
Publication date： Dec. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】 簡単な装置を用いて製造することができ、撥水性の発現が早いイットリア薄膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 炭素数が10以下の炭素、水素、酸素及び水酸基を含む水溶性有機化合物とイットリアゾル液との混合物を、基材に塗布して焼成することを特徴とするイットリア薄膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

イットリアゾル液と炭素数が10以下の炭素、水素、酸素及び水酸基を含む水溶性有機化合物との混合物を、 基材に塗布して焼成することを特徴とするイットリア薄膜の製造方法。

IPC (2)：

C01F 17/00 ,  C03C 17/25

FI (2)：

C01F 17/00 A ,  C03C 17/25 A

F-Term (12)：

4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059EA01 ,  4G059EA18 ,  4G059EB07 ,  4G076AA02 ,  4G076AB13 ,  4G076BA14 ,  4G076BA38 ,  4G076BB08 ,  4G076CA10 ,  4G076DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 金属酸化物薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-246608   Applicant：新技術事業団, 堤信夫, 坂田勘治