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J-GLOBAL ID：200903036245102801

洗浄剤組成物

Inventor：
高橋 央治

About 高橋 央治

, 
橋本 克夫

About 橋本 克夫

, 
佐々木 啓

About 佐々木 啓


Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Agent (1)： 生田 哲郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001394843
Publication number (International publication number)：2003193090
Application date： Dec. 26, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】 洗浄時において、泡立ちが良く、泡の持続性に優れた、適度な増粘性を有した、安全性の高い洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)【化4】(式中、R1は炭素数8〜30の炭化水素基を表し、X1、X2のいずれか一方は-CH2COOM1を表し、他方は水素原子を表し、M1は水素原子、アルカリ金属類、アルカリ土類金属類、アンモニウム、低級アルカノールアミンカチオン、低級アルキルアミンカチオン、または塩基性アミノ酸カチオンを表す。)で示されるヒドロキシエーテルカルボン酸型アニオン界面活性剤0.3〜25質量%とプロピレングリコールモノ脂肪酸エステル0.5〜5質量%とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数8〜30の炭化水素基を表し、X1、X2のいずれか一方は-CH2COOM1を表し、他方は水素原子を表し、M1は水素原子、アルカリ金属類、アルカリ土類金属類、アンモニウム、低級アルカノールアミンカチオン、低級アルキルアミンカチオン、または塩基性アミノ酸カチオンを表す。)で示されるヒドロキシエーテルカルボン酸型アニオン界面活性剤0.3〜25質量%とプロピレングリコールモノ脂肪酸エステル0.5〜5質量%とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (7)：
C11D 1/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/52 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/34 ,  C11D 3/37
FI (7)：
C11D 1/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/52 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/34 ,  C11D 3/37
F-Term (38)：
4C083AB332 ,  4C083AC122 ,  4C083AC171 ,  4C083AC172 ,  4C083AC302 ,  4C083AC391 ,  4C083AC392 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC791 ,  4C083AC792 ,  4C083AD092 ,  4C083AD242 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083EE05 ,  4C083EE09 ,  4H003AB05 ,  4H003AB23 ,  4H003AB27 ,  4H003AC03 ,  4H003AC13 ,  4H003AD04 ,  4H003DA02 ,  4H003EB06 ,  4H003EB41 ,  4H003EB42 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02 ,  4H003FA18 ,  4H003FA29 ,  4H003FA30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-232499   Applicant：株式会社資生堂
  • 特開昭63-154609
  • 特開昭62-084196
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