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J-GLOBAL ID：200903036268096787

ICP分析装置

Inventor： 中川 良知 ,  高木 康行
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000147269
Publication number (International publication number)：2001330590
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ICP分析装置において、試料溶液のプラズマへの導入効率を上げ、かつ溶媒成分がプラズマトーチに到達する割合を抑えてより高感度で安定した分析を可能にするスプレーチャンバーの提供する。【解決手段】 試料溶液中の微量不純物を分析する目的で前記試料溶液を噴霧するネブライザーと、噴霧した霧をプラズマに導入するプラズマトーチと、前記ネブライザーと前記プラズマトーチの間にあって前記霧の粒径を分別するスプレーチャンバーを備えたICP分析装置において、前記スプレーチャンバーが筒状の構造をしており中心部にヒーターを備え外周部は冷却し、前記霧は前記ヒータと前記外周部の間を通した事を特徴とする。

Claim (excerpt)：

試料溶液中の微量不純物を分析する目的で前記試料溶液を噴霧するネブライザーと、前記噴霧した霧をプラズマに導入するプラズマトーチと、前記ネブライザーと前記プラズマトーチの間にあって、前記ネブライザーにより噴霧される霧から細径の粒からなる霧を分別して前記プラズマトーチに導出するスプレーチャンバーを備えたICP分析装置において、前記スプレーチャンバー中心部に加熱部と、前記スプレーチャンバー外周部に冷却部を設け、前記霧は前記加熱部と前記冷却部の間を通した事を特徴とするICP分析装置

IPC (4)：

G01N 27/62 ,  G01N 1/28 ,  H05H 1/30 ,  G01N 21/73

FI (5)：

G01N 27/62 F ,  H05H 1/30 ,  G01N 21/73 ,  G01N 1/28 K ,  G01N 1/28 T

F-Term (5)：

2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043GA19 ,  2G043GB07 ,  2G043NA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-147241
  
• スプレ-チヤンバ-
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-249969   Applicant：横河電機株式会社
• 高周波誘導結合プラズマ分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-022015   Applicant：日本電子株式会社
• 特開平2-064449