集束イオンビームの光軸調整方法および集束イオンビーム装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：林敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996286760
Publication number (International publication number)：1998134746
Application date： Oct. 29, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】集束イオンビーム装置のイオン源交換時等の軸合わせ作業を容易にする集束イオンビームの光軸合わせ方法および集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】イオンビームを発生するイオン源1および引き出し電極2からなるイオン源部3と、前記イオンビームの電流密度の高い中央部分を通過させると共にその電流を測定する第1のアパーチャ5と、コンデンサーレンズ6、第2のアパーチャ7および対物レンズ8を含む荷電粒子光学系9と、前記集束イオンビームを走査する偏向電極16と、前記集束イオンビームを試料に照射したことにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とを有する集束イオンビーム装置の光軸を調整する方法であって、前記イオン源1を前記イオンビームの光軸に直交する方向に移動しながら前記二次荷電粒子検出器で検出される二次荷電粒子の量をモニタし、当該二次荷電粒子の量が極大になるように前記イオン源1の位置を調整する。

Claim (excerpt)：

イオンビームを発生するイオン源および引き出し電極からなるイオン源部と、前記イオンビームの電流密度の高い中央部分を通過させる第1のアパーチャと、前記イオンビームを絞るためのコンデンサーレンズ、前記イオンビームの外形を規制するための第2のアパーチャと更に前記イオンビームを絞り集束イオンビームとする対物レンズよりなる荷電粒子光学系と、前記集束イオンビームを走査する偏向電極と、前記集束イオンビームを試料に照射することにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とを有する集束イオンビーム装置の光軸を調整する方法において、前記イオン源を前記イオンビームの光軸に直交する方向に移動しながら前記集束イオンビームを前記試料表面に照射し、前記照射により発生する二次荷電粒子の量を前記二次荷電粒子検出器で測定し、該二次荷電粒子の量が極大になるように前記イオン源の位置を設定することを特徴とする集束イオンビームの光軸調整方法。

IPC (4)：

H01J 37/04 , H01J 37/252 , H01J 37/305 , H01J 37/317

FI (4)：

H01J 37/04 B , H01J 37/252 B , H01J 37/305 Z , H01J 37/317 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

走査電子顕微鏡における自動軸調整装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-020117 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
集束イオンビーム発生手段を用いた処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-035569 Applicant：株式会社日立製作所
集束イオンビームの光軸調整方法および集束イオンビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-248238 Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社

Show all

Return to Previous Page