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J-GLOBAL ID：200903036588774155

全反射蛍光X線分析装置

Inventor：
寺田 慎一

About 寺田 慎一


Applicant, Patent owner：
株式会社テクノス研究所

About 株式会社テクノス研究所


Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994273976
Publication number (International publication number)：1996136479
Application date： Nov. 08, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：
【要約】【目的】 試料へのX線入射条件をほぼ一定に保ちつつ、励起X線のスペクトルを簡単に切換えることができる全反射蛍光X線分析装置を提供する。【構成】 全反射蛍光X線分析装置は、複数のX線源1、2、3を搭載する移動ステージ4と、試料SPを真空空間に収納する試料室11と、試料SPから発生する蛍光X線を検出するX線検出器20と、試料室11を通過したX線の強度を計測するX線検出器17などで構成され、X線管1a、2a、3aの陽極材料は相互に異なり、互いにスペクトルが異なるX線を発生する。励起X線を切換える場合、ステージ駆動部5によって移動ステージ4を駆動して、X線源1、2、3のうち何れかの出射窓がX線窓12と向かい合うように位置決めする。
Claim (excerpt)：
X線管およびX線を絞るスリットが一体的に設けられ、互いにスペクトルが異なるX線を発生するための複数のX線源と、複数のX線源を搭載する移動ステージと、移動ステージを駆動して、使用するX線源を選択するためのステージ駆動手段と、選択されたX線源からのX線を試料表面で全反射するように照射して、試料から発生する蛍光X線を検出するためのX線検出器と、試料の姿勢を調整するための試料保持手段とを備えることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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