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J-GLOBAL ID：200903036632112696

非シリカ系メソ構造体及びその製造方法

Inventor：
木村 辰雄

About 木村 辰雄


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001352595
Publication number (International publication number)：2003146625
Application date： Nov. 19, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：
【要約】【課題】 非シリカ系メソ構造体材料及び均一なメソ孔を有する多孔質材料の製造方法を提供する。【解決手段】 有機基を導入することで構造規則性とその構造安定性を付与した無機系酸化物(メソ構造体)材料からなる非シリカ系メソ構造体材料を製造する方法であって、無機系酸化物材料に、溶液中で自己集合する界面活性剤、ブロック共重合体、又は高分子化合物を添加し、これらを含有する前駆体溶液を調製する工程で、有機官能基が直接Siに結合したオルガノシラン化合物を添加し、有機基含有メソ構造体材料を調製する、有機修飾メソ構造体材料の製造方法、非シリカ系メソ構造体材料、及びそれから得られる多孔質材料。
Claim (excerpt)：
溶液中で自己集合する界面活性剤、ブロック共重合体、又は高分子化合物を利用すると共に、これらの有機分子集合体より高い燃焼温度を有する有機基を導入することで構造規則性とその構造安定性を付与した無機系酸化物(メソ構造体)材料からなる、数〜数十nmの領域に均一なメソ孔を有する多孔体材料を得るための前駆体材料の、非シリカ系メソ構造体材料を製造する方法であって、無機系酸化物材料に、溶液中で自己集合する界面活性剤、ブロック共重合体、又は高分子化合物を添加し、これらを含有する前駆体溶液を調製する工程で、有機官能基が直接Siに結合したオルガノシラン化合物を添加し、有機基含有メソ構造体材料を調製する、ことを特徴とする有機修飾メソ構造体材料の製造方法。
IPC (3)：
C01B 13/14 ,  C01B 25/36 ,  C01F 7/02
FI (3)：
C01B 13/14 Z ,  C01B 25/36 D ,  C01F 7/02 E
F-Term (10)：
4G042DA01 ,  4G042DD06 ,  4G042DD08 ,  4G042DE07 ,  4G076AA02 ,  4G076AB02 ,  4G076AB10 ,  4G076BA11 ,  4G076BF01 ,  4G076CA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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