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J-GLOBAL ID:200903036664213370
蒸着のためのウェハクランプおよびその使用方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
五十嵐 孝雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996245549
Publication number (International publication number):1997171975
Application date: Aug. 27, 1996
Publication date: Jun. 30, 1997
Summary:
【要約】【課題】 蒸着物質がウェハとクランプとの間にブリッジを形成することに起因する問題を低減する。【解決手段】 ウェハクランプは、内側対面部と外側対面部とを有するクランプ本体と、クランプ本体の内側対面部に接続されて内側に伸びるオーバーハング部材と、を備える。このクランプは、ウェハを保持するときに、オーバーハング部材がウェハの周辺領域から少なくとも所定の距離だけ離れて周辺領域の上側に伸長するように設計される。周辺領域とは、ウェハの上表面の周縁近くに存在する領域である。上記所定の距離は、蒸着の際に材料層がウェハ表面とオーバーハング部材の双方に接触しないように選択され、材料層の厚みの少なくとも約100倍である。このウェハクランプが化学蒸着リアクタ内での反応時にウェハを保持するために使用されるときには、蒸着層がウェハのみに接触し、クランプには接触しないように形成される。
Claim (excerpt):
表面と、前記表面のエッジに取り囲まれた周辺領域とを有するウェハ上に物質層を蒸着するために使用される蒸着リアクタ内において、処理中にウェハを所定の位置に保持するためのクランプであって、内側面部と外側面部とを有するクランプ本体と、前記クランプ本体の前記内側面部に接続されて内側方向に伸びるオーバーハング部と、を備え、蒸着の際に物質層が前記ウェハ表面と前記オーバーハング部の双方には接触しないようにするために、前記クランプが前記ウェハに係合するときに、前記オーバーハング部が前記ウェハの前記周辺領域から少なくとも所定の距離だけ離れて前記周辺領域の上側に伸びている、クランプ。
IPC (6):
H01L 21/285
, C23C 14/50
, C23C 16/44
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/31
FI (6):
H01L 21/285 C
, C23C 14/50 D
, C23C 16/44 H
, H01L 21/203 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/31 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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CVD装置、マルチチャンバ方式CVD装置及びその基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-174896
Applicant:日電アネルバ株式会社
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成膜処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-225211
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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プラズマ処理装置の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-352895
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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