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J-GLOBAL ID：200903036698208422

微細構造造形方法

Inventor：
丸尾 昭二

About 丸尾 昭二

, 
長谷川 拓也

About 長谷川 拓也


Applicant, Patent owner：
国立大学法人横浜国立大学

About 国立大学法人横浜国立大学


Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007228176
Publication number (International publication number)：2009056781
Application date： Sep. 03, 2007
Publication date： Mar. 19, 2009
Summary：
【課題】本発明の課題は、複雑で微細な3次元構造体を造形する際に起こる造形物の歪みを低減することができる微細構造造形方法を提供することにある。【解決手段】上記課題を解決するために、本発明に係る微細構造造形方法は、歪み低減部を付与された任意の3次元構造を設計する構造設計ステップと、レーザー光を光硬化性樹脂に集光させるマイクロ光造形法により構造設計ステップにより設計された3次元構造を造形する造形ステップと、造形ステップにおいて、レーザー光が集光されなかった未硬化の樹脂を洗浄し、レーザー光が集光されることにより硬化した樹脂を乾燥させる洗浄乾燥ステップとを備えることを特徴とする。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
歪み低減部を付与された任意の3次元構造を設計する構造設計ステップと、 レーザー光を光硬化性樹脂に集光させるマイクロ光造形法により前記構造設計ステップにより設計された前記3次元構造を造形する造形ステップと、 前記造形ステップにおいて、前記レーザー光が集光されなかった未硬化の樹脂を洗浄し、前記レーザー光が集光されることにより硬化した樹脂を乾燥させる洗浄乾燥ステップとを備えることを特徴とする微細構造造形方法。
IPC (2)：
B29C 67/00 ,  B81C 5/00
FI (2)：
B29C67/00 ,  B81C5/00
F-Term (9)：
3C081CA34 ,  3C081CA43 ,  4F213WA25 ,  4F213WL08 ,  4F213WL43 ,  4F213WL55 ,  4F213WL77 ,  4F213WL92 ,  4F213WW38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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