Pat

J-GLOBAL ID：200903036970016457

研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法

Inventor： 石飛 健 ,  貴堂 高徳
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996034178
Publication number (International publication number)：1997204658
Application date： Jan. 30, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高密度な磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、ヒュームドシリカ、硝酸アルミニウムからなる。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、ヒュームドシリカ、硝酸アルミニウムからなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 超研摩方法およびそのためのスラリ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324753   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 研磨用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-021197   Applicant：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 特開平3-060420
  
• 特開平3-060420