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J-GLOBAL ID:200903036990493219

高周波プラズマによるフラーレン類の合成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993335656
Publication number (International publication number):1995187633
Application date: Dec. 28, 1993
Publication date: Jul. 25, 1995
Summary:
【要約】【目的】 本発明は従来大量生産が出来ず極めて高価であったフラーレン類を、大量生産可能な合成法を開発し、フラーレン類を安価に提供しようとするものである。【構成】 先端にノズルをもった中心導管より原料及びキャリヤガスを導入し、中心導管をとり囲む2重管部にプラズマガスを導入し、水冷管を介して高周波コイルを巻回したプラズマ発生部において、中心に孔のあいたドーナッ状の高周波プラズマを発生させ、該高周波プラズマの中心孔に炭化水素の気体または蒸気または、それらと揮発性の有機金属化合物の蒸気との混合物を導入することによりC60,C70その他高次の炭素同素体及び金属を内包したフラーレン類を合成することを特徴とする高周波プラズマによるフラーレン類の合成方法。
Claim (excerpt):
先端にノズルをもった中心導管より原料及びキャリヤガスを導入し、中心導管をとり囲む2重管部にプラズマガスを導入し、水冷管を介して高周波コイルを巻回したプラズマ発生部において、中心に孔のあいたドーナッ状の高周波プラズマを発生させ、該高周波プラズマの中心孔に炭化水素の気体または蒸気または、それらと揮発性の有機金属化合物の蒸気との混合物を導入することによりC60,C70その他高次の炭素同素体及び金属を内包したフラーレン類を合成することを特徴とする高周波プラズマによるフラーレン類の合成方法。
IPC (4):
C01B 31/02 101 ,  C01B 31/02 ZAA ,  B01J 19/08 ,  C01G 1/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • C60作製方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-178703   Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
  • 特公平1-022813
  • 特開昭62-152532

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