Pat
J-GLOBAL ID:200903037046269370
熱化学反応の高められた生成速度を得るための方法及び装置
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000562137
Publication number (International publication number):2002521192
Application date: Jul. 27, 1999
Publication date: Jul. 16, 2002
Summary:
【要約】本発明は、触媒熱化学反応の局部的な熱転移速度にほぼ一致する反応チャンバから壁を介して熱転移チャンバへの熱転移速度を提供する方法及び装置(容器)である。本発明の要旨は、熱転移チャンバ、反応チャンバ及び両者の間の壁を含めて容器を貫通する横断面上で規定される熱距離にある。横断面は、反応物質流のバルク流方向に対して直交しており、熱距離は、横断面上の最も冷たい位置と最も熱い位置との間の距離である。熱距離は、反応チャンバから熱転移チャンバへの熱転移速度が局部的な熱転移速度にほぼ一致するような長さである。
Claim (excerpt):
入口及び出口を有する熱化学反応用の反応チャンバの反応チャンバ容積当たりの高い生成率を得る方法であって、(a)上記反応チャンバ内に反応物質流が実質的に完全に通過する多孔性インサートを置いて、該多孔性インサートを有する反応チャンバは1未満の平均気孔度と、3mm以下の移動距離と、を有するようにし、(b)上記反応チャンバをバルブ反応物質流に平行な6インチ(15.24cm)以下の長さと、2インチ(5.08cm)以下の高さと、を有するようにサイジングし、こうして、多孔性インサートを貫通して高められた熱転移速度で反応熱を移動させ、(c)反応チャンバと熱的に接触している状態に熱転移チャンバを設けて、熱転移チャンバが高められた熱転移速度にて熱転移チャンバと反応チャンバとの間の壁を横断して熱を移動させるようにし、こうして、高められた熱化学反応用反応チャンバ容積当たりの生成速度の慣用の熱化学反応用反応チャンバ容積当たりの生成速度に対する比率を少なくとも2とする、各工程を備えることを特徴とする方法。
IPC (6):
B01J 19/00 301
, B01J 23/46 301
, B01J 23/46 311
, B01J 33/00
, C01B 3/16
, C01B 3/38
FI (6):
B01J 19/00 301 A
, B01J 23/46 301 M
, B01J 23/46 311 M
, B01J 33/00 G
, C01B 3/16
, C01B 3/38
F-Term (53):
4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB14
, 4G040EB22
, 4G040EB46
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA11
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA02A
, 4G069BA04A
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BA17
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC68B
, 4G069BC70B
, 4G069BC71B
, 4G069CC17
, 4G069DA06
, 4G069FA02
, 4G069FA03
, 4G069FB08
, 4G069FB14
, 4G069FB44
, 4G075AA02
, 4G075AA45
, 4G075BA01
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BD02
, 4G075BD12
, 4G075BD14
, 4G075BD22
, 4G075CA02
, 4G075CA54
, 4G075DA05
, 4G075EA06
, 4G075EB21
, 4G075EB27
, 4G075EC06
, 4G075FA12
, 4G075FB01
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FC11
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB14
, 4G140EB22
, 4G140EB46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
特開昭62-244434
-
特開平2-270904
-
化学反応実施方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-530921
Applicant:ガステックエヌ.ファウ.
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