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J-GLOBAL ID：200903037269059890

感光膜共重合体、感光膜共重合体の製造方法、感光膜、半導体装置の製造方法及び半導体装置

Inventor： 鄭 載昌 ,  盧 致亨 ,  朴 柱温
Applicant, Patent owner： 現代電子産業株式会社
Agent (1)： 荒船 博司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998002535
Publication number (International publication number)：1998207058
Application date： Jan. 08, 1998
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 エッチング耐性、耐熱性及び接着性は勿論、形成されたパターンの上側部分が丸くなるのが防止され、鮮明な解像度によるパターンを形成することができる感光膜共重合体、感光膜共重合体の製造方法及びこの感光膜共重合体を含む感光膜を提供する。【解決手段】 少なくとも2種類以上の脂肪族環状オレフィンと、少なくとも1種類のアミンとを共重合させて得られることを特徴とする感光膜共重合体であって、アミンを導入することにより、形成可能なパターンの解像度(resolution)が向上し、鮮明な解像度によるパターンを形成することができる。

Claim (excerpt)：

少なくとも2種類以上の脂肪族環状オレフィンと、少なくとも1種類のアミンとを共重合させて得られることを特徴とする感光膜共重合体。

IPC (5)：

G03F 7/027 ,  C08F 2/48 ,  C08F226/02 ,  C08F232/00 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/027 ,  C08F 2/48 ,  C08F226/02 ,  C08F232/00 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-088849   Applicant：三菱化学株式会社
• 感光性樹脂組成物および感光性樹脂レジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-104335   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 反射防止膜およびレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-288131   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• アリルアミン-フマル酸共重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-270491   Applicant：日東紡績株式会社
• 変性重合体組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-046778   Applicant：三井石油化学工業株式会社