イオンビームを用いてポリマー、金属およびセラミックスの表面を改質する装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：津国肇 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000524490
Publication number (International publication number)：2001526323
Application date： Dec. 04, 1998
Publication date： Dec. 18, 2001
Summary：

【要約】物質に照射されるイオンビーム(IB)のエネルギーが制御されるように、表面を改質する物質に電圧を供給し、印加される電圧を制御することが可能であり、真空チャンバーの、イオンビームを照射する部分の真空度を、イオンビームが発生する部分の真空度と差をつけ、そしてまた、両側に照射する処理と、連続処理に適用できる、イオンビーム(IB)を用いてポリマー、金属およびセラミックスの表面を改質する装置が開示される。

Claim (excerpt)：

チャンバー; チャンバー内を真空に保つ手段; イオンビームを発生させるためのイオンガンを有するイオン源; 表面改質する物質を、イオン源からのイオンビームによって照射する位置に置くことができる保持具;およびそれを通して物質の表面に反応ガスを供給する反応ガス供給手段を含む、イオンビームを用いて物質の表面を改質するための装置であって、保持具がチャンバーから絶縁されているとき、保持具に電圧が印加され、それによって、物質の表面に照射されるイオンビームのイオンエネルギーが制御される表面改質装置。

IPC (4)：

C23C 14/48 , C08J 7/00 302 , C23F 4/00 , H01J 37/32

FI (4)：

C23C 14/48 Z , C08J 7/00 302 , C23F 4/00 C , H01J 37/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

電子ビーム励起プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-098527 Applicant：川崎重工業株式会社
特開昭61-163270
特開平1-195274

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