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J-GLOBAL ID：200903037659175130

レジスト組成物の製造方法

Inventor： 新留 訓 ,  市川 幸司
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997034144
Publication number (International publication number)：1998232492
Application date： Feb. 18, 1997
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ノボラック樹脂とキノンジアジド系感光剤を含有するレジスト組成物を製造するにあたり、材料の仕込み精度を向上させ、もってその組成物から得られるレジストパターンの寸法精度をも向上させる。【解決手段】 キノンジアジド系感光剤を有機溶剤の溶液の形で用意し、これをノボラック樹脂と混合することにより、レジスト組成物を製造する。この組成物は、アルカリ可溶性の低分子量フェノール系添加剤を含有することができるが、このフェノール系添加剤も有機溶剤の溶液の形で用意するのが好ましく、またノボラック樹脂も有機溶剤の溶液の形で用意するのが好ましい。

Claim (excerpt)：

ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解してなるレジスト組成物を製造する方法であって、該キノンジアジド系感光剤を有機溶剤の溶液の形で用意し、これをノボラック樹脂と混合することを特徴とする、レジスト組成物の製造方法。

IPC (5)：

G03F 7/022 ,  B01F 3/08 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/022 ,  B01F 3/08 Z ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-154259
  
• 感放射線性樹脂組成物の調製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-041176   Applicant：住友化学工業株式会社