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J-GLOBAL ID:200903037677922148

クラスタを利用した乾式洗浄装置及びその方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 磯野 道造
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000149661
Publication number (International publication number):2001137797
Application date: May. 22, 2000
Publication date: May. 22, 2001
Summary:
【要約】【課題】 基板材料表面に損傷を与えることなく粉塵または有機物塵埃を効率的に除去することができるクラスタを利用した洗浄装置及び方法を提供する。【解決手段】 洗浄装置は、表面洗浄対象物たる基板材料42が装着されるチャンバ40と、チャンバ40内に設置され、ガスを中性のクラスタに変化させてチャンバ40内の基板材料に照射するためのノズル53とを含み、チャンバ40は、基板材料42を固定するためのチャック56と、チャック56の往復運動及び/または回転運動により基板材料42を往復運動及び/または回転運動させるための往復運動及び/または回動手段とを含む。そして、アルゴン、窒素、二酸化炭素の中の少なくとも一種のガスを砂時計状のノズル53を通過させノズル53より低圧のチャンバ40に噴射させて中性のクラスタを形成し、このように形成された中性のクラスタを基板材料表面42aに対して所定の角度で照射する。
Claim (excerpt):
中性のクラスタを形成する段階と、前記クラスタを基板材料表面に対して所定の角度で照射する段階と、を含むことを特徴とするクラスタを利用した乾式洗浄方法。
IPC (3):
B08B 5/00 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304
FI (3):
B08B 5/00 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 Z
F-Term (8):
3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116AB33 ,  3B116AB37 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB77 ,  3B116BB88
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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