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J-GLOBAL ID：200903037739404947

露光装置及び露光方法

Inventor：
中野 一志

About 中野 一志


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (4)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005291809
Publication number (International publication number)：2006093721
Application date： Oct. 04, 2005
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：
【課題】液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面を液浸状態に維持し、または当該液浸状態を生成するための新規かつ有用な技術を提供する。【解決手段】露光装置は、基板と投影光学系の最終面との間隙に液体を満たした状態で原版を介して基板9を露光する。露光装置は、基板を保持し移動する基板ステージ10と、該基板ステージ10に保持された基板9と実質的に等しい高さの面を有し移動する平面板21と、供給ノズル5を有し、該最終面に対向して配された、該平面板21および該基板ステージ10に保持された基板9の少なくとも一方と該最終面との間隙に、該供給ノズル5を介して液体を供給する供給手段と、回収ノズル6を有し、該回収ノズル6を介して該間隙に満たされた液体を回収する回収手段とを備える。【選択図】図9
Claim (excerpt)：
原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記基板と前記投影光学系の最終面との間隙に液体を満たした状態で前記原版を介して前記基板を露光する露光装置であって、 前記基板を保持し移動する基板ステージと、 前記基板ステージに保持された前記基板と実質的に等しい高さの面を有し、移動する平面板と、 供給ノズルを有し、前記最終面に対向して配された、前記平面板および前記基板ステージに保持された前記基板の少なくとも一方と前記最終面との間隙に、前記供給ノズルを介して前記液体を供給する供給手段と、 回収ノズルを有し、前記回収ノズルを介して前記間隙に満たされた前記液体を回収する回収手段と を備え、 前記基板ステージに保持された前記基板が前記最終面に対向して配されず、かつ前記平面板が前記最終面に対向して配された状態で、前記平面板と前記最終面との間隙に前記液体を供給し、かつ当該間隙から前記液体を回収する ことを特徴とする露光装置。
IPC (1)：
H01L 21/027
FI (2)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 515G
F-Term (9)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB25 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046CD01 ,  5F046DA07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
  • 投影露光方法及び装置
    Gazette classification：再公表公報   Application number：JP1999001262   Applicant：株式会社ニコン
Cited by examiner (1)

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