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J-GLOBAL ID：200903037778515748

像加熱装置

Inventor： 阿部 篤義 ,  林崎 実 ,  金田 恵介 ,  中根 清文
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995176135
Publication number (International publication number)：1997026719
Application date： Jul. 12, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 磁気誘導により回転体を加熱し像加熱を行なう像加熱装置において、ニップ部における長手方向の温度分布を適正にする。【解決手段】 回転体10の回転方向と直交する方向において励磁コイル18と発熱層1との間の距離を変化させる。

Claim (excerpt)：

発熱層を有する回転体と、この回転体とニップを形成する加圧部材と、前記発熱層に磁場を入れることで渦電流を発生させるための交番磁場を発生させる励磁コイルと、を有し、回転体と加圧部材間に画像担持体を挟持搬送させることで画像担持体に熱エネルギーを付与する像加熱装置において、回転体の回転方向と直交する方向で励磁コイルと発熱層との間の距離が変化していることを特徴とする像加熱装置。

IPC (2)：

G03G 15/20 103 ,  F16C 13/00

FI (2)：

G03G 15/20 103 ,  F16C 13/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 定着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-004535   Applicant：京セラ株式会社
• 定着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324728   Applicant：京セラ株式会社