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J-GLOBAL ID：200903037831038604

ガス分離膜フィルタおよびその製造方法

Inventor： 由宇 喜裕 ,  佐郷 文昭 ,  大嶋 仁英
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001363643
Publication number (International publication number)：2003164739
Application date： Nov. 29, 2001
Publication date： Jun. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】高温においてもガス透過率の経時的変化を抑制したガス分離膜を提供する。【解決手段】多孔質支持体と、該多孔質支持体の上に設けられ、酸化珪素を主体とし、Al、Ti及びZrのうち少なくとも1種を含むガス分離膜を具備し、該ガス分離膜の赤外吸収分析において、SiO結合ピーク強度ISiOに対するOH結合ピーク強度IOHの比IOH/ISiOが0.1以下であることを特徴とし、特に、前記ガス分離膜が、Al、Ti及びZrを酸化物換算で10〜50モル%含むことが好ましい。

Claim (excerpt)：

多孔質支持体と、該多孔質支持体の上に設けられ、酸化珪素を主体とし、Al、Ti及びZrのうち少なくとも1種を含むガス分離膜とを具備し、該ガス分離膜の赤外吸収分析において、SiO結合ピーク強度ISiOに対するOH結合ピーク強度IOHの比IOH/ISiOが0.1以下であることを特徴とするガス分離膜フィルタ。

IPC (6)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/85 ,  C04B 41/87 ,  C04B 41/89 ,  H01M 8/06

FI (6)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/85 C ,  C04B 41/87 A ,  C04B 41/89 A ,  H01M 8/06 G

F-Term (26)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MB18 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006PB17 ,  4D006PB18 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-366968   Applicant：京セラ株式会社