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J-GLOBAL ID:200903037893189587
感光性樹脂組成物及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993136184
Publication number (International publication number):1994348007
Application date: Jun. 07, 1993
Publication date: Dec. 22, 1994
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 感度、解像度、プロファイル、焦点深度及び耐熱性等の諸性能に優れ、しかもスカムのない感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供する。【構成】 一般式(Ia)(式中、R1 〜R3 は各々独立して水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表わす。)で示されるフェノール類とホルムアルデヒドとを酸触媒の存在下に反応させて得られる反応生成物であって、且つ、重量平均分子量が200から900のノボラック又は分子量が200〜900の化合物と、一般式(Ib)(式中、R4 〜R6 は各々独立して水素原子、水酸基又は炭素数1〜6のアルキル基を表わす。)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒドとの3者を縮合させて得られる、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、レジスト溶剤及びo-ナフトキノンジアジド化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物;並びに、その製造方法。
Claim (excerpt):
一般式(Ia)【化1】(式中、R1 〜R3 は各々独立して水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表わす。)で示されるフェノール類とホルムアルデヒドとを酸触媒の存在下に反応させて得られる反応生成物であって、且つ、重量平均分子量が200から900のノボラック又は分子量が200〜900の化合物と、一般式(Ib)【化2】(式中、R4 〜R6 は各々独立して水素原子、水酸基又は炭素数1〜6のアルキル基を表わす。)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒドとの3者を縮合させて得られ、しかも分子量900以下の範囲のGPCパターン面積比が未反応のフェノール化合物のパターン面積を除く全パターン面積に対して25%以下(ポリスチレン換算)であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、レジスト溶剤及びo-ナフトキノンジアジド化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (3):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開昭60-164740
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特開平3-022949
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特開平3-029950
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特開平2-037348
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特開平1-177032
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特開平4-101147
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特開平3-142468
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特開平3-273251
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高度にオルソ-オルソ結合したノボラックバインダー樹脂および放射線感受性組成物中のその利用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-094115
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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特開平3-029949
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