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J-GLOBAL ID：200903037915553660

半導体レーザ

Inventor： 和田 貢
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996155691
Publication number (International publication number)：1998004237
Application date： Jun. 17, 1996
Publication date： Jan. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 0.90-1.1μm 帯の歪量子井戸半導体レーザにおいて、高出力発振下における信頼性を向上させる。【解決手段】 n-GaAs基板2上に、n-Inx4Ga1-x4As1-y4Py4 クラッド層3、Inx3Ga1-x3As1-yPy光導波層4、Inx2Ga1-x2As1-yPy 引張り歪障壁層5、Inx1Ga1-x1As1-yPy 圧縮歪活性層6、Inx2Ga1-x2As1-yPy引張り歪障壁層7、p-Inx3Ga1-x3As1-y3Py3光導波層8、p-Inx4Ga1-x4As1-y4Py4 クラッド層9、p-GaAsコンタクト層10を順次成長させる。障壁層5、7は、活性層6の圧縮歪を補償する歪量の引張り歪を有する。なお、クラッド層3、9および光導波層4、8は基板2に格子整合する組成である。

Claim (excerpt)：

III-V族化合物半導体であるGaAs基板上に少なくとも第一クラッド層、第一光導波層、第一障壁層、活性層、第二障壁層、第二光導波層および第二クラッド層を順次積層させて形成するIII-V族系半導体レーザにおいて、前記第一および第二クラッド層と前記第一および第二光導波層とが前記GaAs基板に格子整合する組成からなり、前記活性層が前記GaAs基板に対して圧縮性歪を生じる組成からなり、前記第一および第二障壁層、前記活性層の前記圧縮性歪を補償するため引張り歪を生じる組成からなり、前記第一光導波層と第一障壁層、および第二光導波層と第二障壁層のV族組成比が同一であることを特徴とするIII-V族系半導体レーザ。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 半導体レーザ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-055421   Applicant：株式会社日立製作所
• 半導体レーザ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-122379   Applicant：富士写真フイルム株式会社