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J-GLOBAL ID：200903037979105165

電子ビーム励起プラズマ発生装置

Inventor： 龍治 真 ,  森 幸隆 ,  東海 正國
Applicant, Patent owner： 川崎重工業株式会社
Agent (1)： 関 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997172855
Publication number (International publication number)：1999007900
Application date： Jun. 13, 1997
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 放電部から電子を引き出す開口部における損耗を防止し、開口部の物質が反応ガスプラズマに混入してプラズマプロセスに悪影響を及ぼすことを防止するようにした電子ビーム励起プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】 放電部7から電子ビームを引き出す引き出し隘路10を各電極と電気的に絶縁された金属板もしくは絶縁材、好ましくはアルミナあるいは窒化アルミまたは石英で形成する。また、放電部7の引き出し隘路10が中間電極2と放電陽極3を結ぶ方向に対して例えば90度など角度を持った方向に設けられていてもよい。

Claim (excerpt)：

カソードと中間電極と放電陽極と加速電極の順に配置され、中間電極と放電陽極の間に形成される放電部から引き出し隘路を介して電子を引き出し加速電極により加速して隘路の外にあるプロセス室中のガスをプラズマ化する電子ビーム励起プラズマ装置において、前記引き出し隘路が各電極と電気的に絶縁されていることを特徴とする電子ビーム励起プラズマ発生装置。

IPC (8)：

H01J 27/20 ,  C23C 14/32 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (8)：

H01J 27/20 ,  C23C 14/32 Z ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/203 Z ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 電子ビーム源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-110983   Applicant：理化学研究所
• 特開平2-168541
  
• 特開平2-216814
  
• 特開昭63-221540