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J-GLOBAL ID：200903038014559828

感放射線性レジスト組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001032855
Publication number (International publication number)：2002236358
Application date： Feb. 08, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】式(I)、(II)で代表されるカルボニル基を少なくとも1つ有し、活性光線の照射により分子内水素ラジカル移動を伴って分解し、酸を発生する化合物を少なくとも一種含有する感放射線性組成物。
Claim (excerpt)：
(a)カルボニル基を少なくとも1つ有し、活性光線の照射により分子内水素ラジカル移動を伴って分解し、酸を発生する化合物を少なくとも一種含有する感放射線性レジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (45)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4J002BC091 ,  4J002BC121 ,  4J002BG051 ,  4J002BG091 ,  4J002BH011 ,  4J002CC041 ,  4J002CC071 ,  4J002ED026 ,  4J002EE037 ,  4J002EH036 ,  4J002EH126 ,  4J002EJ017 ,  4J002EJ047 ,  4J002EJ048 ,  4J002EJ067 ,  4J002EL097 ,  4J002ES006 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EV046 ,  4J002EV206 ,  4J002EV207 ,  4J002EV217 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002EV316 ,  4J002EV346 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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