フォトレジスト用樹脂組成物の製造法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：古谷聡 , 溝部孝彦 , 持田信二 , 義経和昌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009099545
Publication number (International publication number)：2009155661
Application date： Apr. 16, 2009
Publication date： Jul. 16, 2009
Summary：

【課題】基板密着性やドライエッチング耐性を損なうことなくアルカリ可溶性機能が向上したフォトレジスト用樹脂組成物の製造法を提供する【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位A1を1モル%以上61モル%未満含み且つ極性基及び脂環式骨格を有する繰り返し単位Bを有する重合体Xを含有する混合液に、脂環式骨格を有し且つ酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位A2に対応する単量体を61モル%以上含む単量体混合物MYを、重合体X/単量体混合物MY(重量比)=75/25〜99/1となるような量だけ加えて重合させる工程を含むフォトレジスト用樹脂組成物の製造法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位A1を1モル%以上61モル%未満含み且つ極性基及び脂環式骨格を有する繰り返し単位Bを有する重合体Xを含有する混合液に、脂環式骨格を有し且つ酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位A2に対応する単量体を61モル%以上含む単量体混合物MYを、重合体X/単量体混合物MY(重量比)=75/25〜99/1となるような量だけ加えて重合させる工程を含むフォトレジスト用樹脂組成物の製造法。

IPC (3)：

C08F 2/44 , G03F 7/038 , C08F 265/06

FI (3)：

C08F2/44 C , G03F7/038 601 , C08F265/06

F-Term (30)：

2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4J011HA03 , 4J011HA04 , 4J011HB13 , 4J011HB14 , 4J011PA69 , 4J011PB36 , 4J011PC02 , 4J011PC09 , 4J026AA45 , 4J026BA27 , 4J026BB03 , 4J026BB04 , 4J026DA02 , 4J026DA12 , 4J026DB02 , 4J026DB12 , 4J026FA04 , 4J026GA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

フォトレジスト用樹脂とその製造方法、及びフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-012838 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
(メタ)アクリル酸系共重合体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-272949 Applicant：日本曹達株式会社

Return to Previous Page