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J-GLOBAL ID：200903038030465043

ポリマー光導波路、光集積回路、及び光モジュール

Inventor： 井戸 立身 ,  小泉 真里 ,  山岸 智明 ,  木村 隆男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997297496
Publication number (International publication number)：1999133254
Application date： Oct. 29, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 損失の偏波依存性が小さく作製が容易なポリマー光導波路を提供する。【解決手段】 基板上に下部クラッド層(屈折率n1 )、コア層(屈折率n2 )を順次塗布し、コア層の不要部を除去した後、再度第1の上部クラッド層(屈折率n3 )、第2の上部クラッド層(屈折率n4 )を順次塗布してポリマー光導波路を作製する。各層の屈折率は、n2 >n3 >n1 ,n4 と設定する。

Claim (excerpt)：

ポリマーからなるコア層とポリマーからなるクラッド層とを基板上に積層して形成された光導波路において、前記基板の面に平行な方向から前記コア層を挟むクラッド層より屈折率の小さなクラッド層で前記基板の面に垂直な方向から前記コア層を挟んだことを特徴とする光導波路。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  G02F 1/313

FI (2)：

G02B 6/12 N ,  G02F 1/313

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• チャネル型光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261594   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• ポリイミド光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-194040   Applicant：日本電信電話株式会社
• ポリマ導波路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-034601   Applicant：日立電線株式会社