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J-GLOBAL ID:200903068651936240
ポリイミド光導波路
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中本 宏 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995194040
Publication number (International publication number):1997021920
Application date: Jul. 07, 1995
Publication date: Jan. 21, 1997
Summary:
【要約】【課題】 偏波方向に対する光損失等の光導波特性の相違が小さいという特性を有する基板上のポリイミド光導波路を提供する。【解決手段】 コア層及びクラッド層がポリイミドであって、このポリイミドの基板面と平行な方向の屈折率(nTE)と基板面に垂直な方向の屈折率(nTM)の差(nTE-nTM)の相違が、波長1.3μmにおいて0.003以下であるポリイミドから構成されるポリイミド光導波路。コア層とクラッド層の一方又は両方が、2種類以上のポリイミドの共重合体であって、nTE-nTMの相違が共重合比によらず波長1.3μmにおいて0.003以下であるポリイミドとポリイミド共重合体から構成され、更にポリイミド共重合体の共重合比を変化させることでコアとクラッドの間の屈折率差を制御するポリイミド光導波路。
Claim (excerpt):
基板上に積層したコア層とクラッド層からなる光導波路において、上記コア層及びクラッド層がポリイミドであって、このポリイミドの基板面と平行な方向の屈折率(nTE)と基板面に垂直な方向の屈折率(nTM)の差(nTE-nTM)の相違が、波長1.3μmにおいて0.003以下であるポリイミドから構成されることを特徴とするポリイミド光導波路。
IPC (3):
G02B 6/12
, G02B 6/13
, C08G 73/10
FI (3):
G02B 6/12 N
, C08G 73/10
, G02B 6/12 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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高分子光導波路及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-071282
Applicant:日本電信電話株式会社
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特開平4-288331
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