Pat
J-GLOBAL ID：200903038031234592

反射防止膜形成組成物

Inventor：
河口 和雄

About 河口 和雄

, 
齋藤 明夫

About 齋藤 明夫

, 
大田 芳久

About 大田 芳久

, 
岩永 伸一郎

About 岩永 伸一郎


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998325670
Publication number (International publication number)：2000143937
Application date： Nov. 16, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 KrFエキシマレーザー光に対する高い吸光度を有するとともにレジスト層と同等の屈折率を有し、形成される反射防止膜の膜厚がごく薄くても反射防止効果が高く、解像度及び精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物を提供すること。【解決手段】 下記式(1)で示される二価の基を有する重合体を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2〜R6はヒドロキシ基あるいは一価の原子もしくは基である。]
Claim (excerpt)：
下記式(1)で示される二価の基を有する重合体および溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。【化1】[ここで、R1は一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数であり、ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2〜R5は独立にヒドロキシ基あるいは一価の原子もしくは基である。]
IPC (9)：
C08L 61/18 ,  C08J 5/18 ,  C08L101/00 ,  C09D133/06 ,  C09D133/24 ,  G03F 7/11 503 ,  C08G 10/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/24
FI (9)：
C08L 61/18 ,  C08J 5/18 ,  C08L101/00 ,  C09D133/06 ,  C09D133/24 ,  G03F 7/11 503 ,  C08G 10/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/24
F-Term (33)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025CB41 ,  2H025DA34 ,  4F071AA33 ,  4F071AA35 ,  4F071AA69 ,  4F071AH12 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4J002BG04X ,  4J002BG05X ,  4J002BG13X ,  4J002CC183 ,  4J002CC193 ,  4J002CD003 ,  4J002CE00W ,  4J002ER006 ,  4J002FD143 ,  4J002FD146 ,  4J002GP03 ,  4J033DA01 ,  4J033DA02 ,  4J033DA12 ,  4J038CG142 ,  4J038DA101 ,  4J038EA011 ,  4J038EA012 ,  4J038KA03 ,  4J038KA06 ,  4J038NA19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM