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J-GLOBAL ID:200903038400910513

化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994143880
Publication number (International publication number):1995330536
Application date: Jun. 02, 1994
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】塗布時の油性感がなく、使用後の肌にべたつきがなく、しかもさらさらとした使用感触を有する新規な化粧料を提供する。【構成】一般式化1で表される高分子量シリコーンの一種または二種以上を0.1〜15重量%【化1】〔式中、R1 はメチル基またはフェニル基(但し、R1 がすべてフェニル基である場合を除く)、R2 はメチル基または水酸基を表す。また、nは 3,000〜20,000の整数を表す。〕(B)ポリメチルシルセスキオキサン粉末を0.1〜15重量%を含有する
Claim (excerpt):
(A)下記一般式化1で表される高分子量シリコーンの一種または二種以上を0.1〜15重量%【化1】〔式中、R1 はメチル基またはフェニル基(但し、R1 がすべてフェニル基である場合を除く)、R2 はメチル基または水酸基を表す。また、nは 3,000〜20,000の整数を表す。〕(B)ポリメチルシルセスキオキサン粉末を0.1〜15重量%を含有することを特徴とする化粧料。
IPC (5):
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-106723   Applicant:花王株式会社
  • 特開平4-312511
  • 化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-205915   Applicant:花王株式会社
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