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J-GLOBAL ID:200903038409101910

脱水素触媒および水素ガス生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中島 淳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002068361
Publication number (International publication number):2003260360
Application date: Mar. 13, 2002
Publication date: Sep. 16, 2003
Summary:
【要約】【課題】水素ガスの生成効率を向上させ、かつ、低コストで製造可能な脱水素触媒および水素ガス生成装置を提供する。【解決手段】触媒金属としてNiと6〜9族元素とを用いた脱水素触媒18を備え、更に炭化水素燃料を貯留する貯留タンク10、脱水素触媒18および脱水素触媒を加熱するヒータを備え、貯留タンク10から供給されたデカリンを加熱された脱水素触媒上で脱水素反応させてナフタレンと水素ガスとを生成する反応タンク20を備えている。
Claim (excerpt):
触媒金属としてNiと6〜9族元素とを用いたことを特徴とする脱水素触媒。
IPC (3):
B01J 23/89 ,  C01B 3/26 ,  H01M 8/06
FI (3):
B01J 23/89 M ,  C01B 3/26 ,  H01M 8/06 G
F-Term (32):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BB02A ,  4G069BB06A ,  4G069BC57A ,  4G069BC61A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC71A ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069CB07 ,  4G069CC40 ,  4G069DA05 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB19 ,  4G069FB43 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  4G140DC02 ,  4G140DC03 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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