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J-GLOBAL ID:200903058257044436
水素ガス生成装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
中島 淳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001056683
Publication number (International publication number):2002255503
Application date: Mar. 01, 2001
Publication date: Sep. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】デカリン/ナフタレン反応を利用して水素使用装置に高純度の水素ガスを供給し、水素使用装置の効率を向上する。【解決手段】原燃料であるデカリンを貯留する貯留タンク10、触媒及び触媒を加熱するヒータを備え、貯留タンク10から供給されたデカリンを加熱された触媒上で脱水素反応させてナフタレンと水素ガスとを生成する反応タンク20、及び反応タンク20から供給されたナフタレン及び水素リッチガスから水素分離膜40を用いて水素ガスを分離して排出する分離タンク30を備えている。
Claim (excerpt):
デカリンからなる燃料またはデカリンを主成分とする燃料を貯留する貯留タンクと、触媒及び触媒を加熱する加熱器を備え、供給された燃料を加熱された触媒上で脱水素反応させる反応タンクと、前記貯留タンク内の燃料を前記触媒上で液膜状態となるように前記反応タンクに供給する供給装置と、水素ガス分離手段を備えると共にデカリンの脱水素反応によって生じたナフタレン及び水素ガスが供給され、前記水素ガス分離手段によって水素ガスを分離して排出する分離タンクと、を含む水素ガス生成装置。
IPC (4):
C01B 3/26
, C01B 3/56
, H01M 8/06
, C10L 1/04
FI (4):
C01B 3/26
, C01B 3/56 Z
, H01M 8/06 R
, C10L 1/04
F-Term (16):
4G040DA03
, 4G040DA04
, 4G040DC03
, 4G040FA02
, 4G040FC01
, 4G040FE01
, 4G140DA03
, 4G140DA04
, 4G140DC03
, 4G140FA02
, 4G140FC01
, 4G140FE01
, 5H027BA13
, 5H027BA16
, 5H027KK00
, 5H027MM01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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