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J-GLOBAL ID：200903038673628683

処理装置

Inventor： 白川 英一 ,  稲田 博一 ,  濱田 知子
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993245906
Publication number (International publication number)：1995078750
Application date： Sep. 06, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 処理液と接触する箇所の汚れを防止して処理の清浄度を高め、歩留り向上を図る。【構成】 ウエハW(被処理体)の表面に処理液供給ノズル25の先端部を微小の間隙をおいて臨ませ、そのノズル先端からウエハWの表面に処理液Lを滴下供給する装置において、処理液供給ノズル25の先端部表面に超撥水性層28を形成したことを特徴とする。処理液供給後、処理液供給ノズル25をウエハWへから退避させれば、ノズル25の先端部表面の処理液Lが超撥水性層28の超撥水作用によって直ちに離脱するので、ノズル25の先端部表面に処理液Lが残留せず、汚れが防止できる。超撥水性層28にテトラフルオロエチレン(tetorafluoru-ethylene )含有複合メッキを用いることにより、極めて高い撥水性が得られる。

Claim (excerpt)：

被処理体の表面に処理液供給ノズルの先端部を臨ませ、そのノズル先端から被処理体の表面に処理液を供給する処理装置において、上記処理液供給ノズルの先端部表面に超撥水性層を形成したことを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (2)：

H01L 21/30 569 B ,  H01L 21/306 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-157158
  
• 液体吐出用管状材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-030203   Applicant：株式会社リコー
• レジスト塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-047039   Applicant：沖電気工業株式会社