マイクロ波を利用したプラズマ発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小池寛治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995300450
Publication number (International publication number)：1997120900
Application date： Oct. 26, 1995
Publication date： May. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】小形の装置でプラズマを発生させ、特に、ダイヤモンドの生成装置として有効に利用することのできるプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】円筒状の外部導体21aとこの外部導体21a内を通る内部導体21bから形成したマイクロ波の同軸線路21と、この同軸線路21と内部を連通するように接続した真空室22と、同軸線路21と真空室22の各々の内部を仕切る石英ガラス等で形成した仕切部材23とを備え、内部導体21bの先端部21cを仕切部材23を通してマイクロ波の波長λに対し(λ/4)または(λ/4)+n・(λ/2)の長さだけ真空室22内に導入して構成してある。

Claim (excerpt)：

円筒状の外部導体とこの外部導体内を通る内部導体から形成したマイクロ波の同軸線路と、この同軸線路と内部を連通するように接続した真空室と、誘電体材料で形成し上記同軸線路と真空室の各々の内部を仕切る仕切部材とを備え、上記内部導体の先端部を上記仕切部材を通してマイクロ波の波長λに対し(λ/4)または(λ/4)+n・(λ/2)の長さだけ真空室内に導入して構成したことを特徴とするマイクロ波を利用したプラズマ発生装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

マイクロ波誘導プラズマへの原料供給方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-282245 Applicant：三菱重工業株式会社
特開平1-309974
同軸形のマイクロ波プラズマ発生器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-354868 Applicant：杉山和夫, ミクロ電子株式会社

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