顕微鏡

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：杉村興作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002270411
Publication number (International publication number)：2004109368
Application date： Sep. 17, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：

【課題】良好な波面を保ちつつ、かつ第1の光と第2の光とを光軸変動を生じることなく試料に照射でき、常に安定して超解像現象を発現できる顕微鏡を提供する。【解決手段】第1の光源11からの第1の光と第2の光源12,13からの第2の光とを、重ね合わせ光学系16により一部分重ね合わせて集光光学系34により試料35に集光させて、試料35の光応答を光検出器40で検出するようにした顕微鏡において、第1の光源11または第2の光源12,13の少なくとも一方からの第1の光または第2の光を、光ファイバ22,28およびコリメータレンズ23,29を有する光ファイバ光学系15,25を経て均一平面波として重ね合わせ光学系16に導くよう構成する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

第1の光源からの第1の光と第2の光源からの第2の光とを、重ね合わせ光学系により一部分重ね合わせて集光光学系により試料に集光させて、上記試料の光応答を光検出器で検出するようにした顕微鏡において、上記第1の光源または第2の光源の少なくとも一方からの上記第1の光または第2の光を、光ファイバおよびコリメータレンズを有する光ファイバ光学系を経て均一平面波として上記重ね合わせ光学系に導くよう構成したことを特徴とする顕微鏡。

IPC (4)：

G02B21/06 , G02B6/42 , G02B21/18 , G02B21/36

FI (4)：

G02B21/06 , G02B6/42 , G02B21/18 , G02B21/36

F-Term (16)：

2H037AA00 , 2H037BA03 , 2H037BA32 , 2H037CA15 , 2H037DA03 , 2H037DA04 , 2H037DA05 , 2H052AA07 , 2H052AA09 , 2H052AB26 , 2H052AC11 , 2H052AC14 , 2H052AC26 , 2H052AC30 , 2H052AC34 , 2H052AF02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

顕微鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-097924 Applicant：科学技術振興事業団, オリンパス光学工業株式会社
マルチバンド照明型走査顕微鏡およびその光学要素
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-183689 Applicant：ライカマイクロシステムスハイデルベルクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
走査顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-183695 Applicant：ライカマイクロシステムスハイデルベルクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

Cited by examiner (3)

顕微鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-097924 Applicant：科学技術振興事業団, オリンパス光学工業株式会社
マルチバンド照明型走査顕微鏡およびその光学要素
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-183689 Applicant：ライカマイクロシステムスハイデルベルクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
走査顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-183695 Applicant：ライカマイクロシステムスハイデルベルクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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