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J-GLOBAL ID：200903038893851359

表面処理終点検出方法

Inventor：
藤原 成章

About 藤原 成章

, 
森脇 聡博

About 森脇 聡博


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995240720
Publication number (International publication number)：1997061344
Application date： Aug. 24, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：
【要約】【課題】 基板に形成される膜の種類や層数、膜の形成順序、各膜の膜厚などの組合わせに左右されずに精度良く終点検出を行なえる方法を提供する。【解決手段】 基板に計測光を照射するとともに、この計測光の基板からの反射光を受光してその受光光量を収集し、この反射光の受光光量に基づいて表面処理の終了時点を検出する表面処理終点検出方法において、反射光の受光光量を複数種類の個別波長ごとに収集し、複数種類の個別波長ごとに受光光量の微分値の絶対値を求め、これら微分値の絶対値を加算し、この加算値と所定のしきい値SLとを比較し、加算値がしきい値SL未満である状態が継続していれば表面処理の終了時点と判定して表面処理を終了させる。
Claim (excerpt)：
基板に処理液を供給して除去対象の層を除去する表面処理の終了時点を検出するに際し、前記基板に計測光を照射するとともに、この計測光の前記基板からの反射光を受光してその受光光量を収集し、この反射光の受光光量に基づいて表面処理の終了時点を検出する表面処理終点検出方法において、前記反射光の受光光量を、複数種類の波長または/および所定の波長帯域(以下、個々の波長や個々の波長帯域を総称して「個別波長」ともいう)ごとに収集し、前記複数種類の個別波長ごとの受光光量の微分値または微分値の絶対値を求め、これら個別波長ごとに求めた各受光光量の微分値または微分値の絶対値に基づき表面処理の終了時点を検出することを特徴とする表面処理終点検出方法。
IPC (10)：
G01N 21/27 ,  C23F 1/00 ,  G01B 11/06 ,  G01J 1/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/66
FI (10)：
G01N 21/27 B ,  C23F 1/00 A ,  G01B 11/06 G ,  G01J 1/04 F ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/30 569 G ,  H01L 21/302 E
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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