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J-GLOBAL ID：200903039034315190

垂直検出装置と水平検出装置と照明光学装置およびそれらを用いた露光装置

Inventor： 寒川 潮 ,  青木 新一郎 ,  竹内 宏之 ,  杉山 吉幸 ,  山下 博 ,  岩澤 利幸
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993258175
Publication number (International publication number)：1995115047
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基板の局所的な反射率の違い、基板上の微細パターンによる回折光の混入、及び局所的な基板面のうねり等による測定精度の劣化のない合焦装置と、部分的なスペックルの発生を抑え、より均一な照明光強度分布を有する照明光学系とを実現した露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の露光装置は、レチクルに描かれた露光するパターンを縮小して基板に転写するために投影する投影レンズと、レーザ光源からの出射光を露光に適した露光光に矯正する照明光学系と、レチクル及び基板をそれぞれ搭載移動するステージと、レチクルと基板の位置合わせを行うアライメント機構からなる。また、合焦装置はレチクルの投影レンズによる縮小像面と基板面を平行に配置するため、投影レンズの焦点位置に対する基板の位置を測定する垂直検出装置と投影レンズの光軸に対する基板表面の角度を測定する水平検出装置から成る。

Claim (excerpt)：

第1の物体に描画されたパターンを第2の物体に転写する装置において、第1の物体に設けられたレンズとして作用する光学素子と、露光光とは波長の異なるアライメント光を出射し上記光学素子を照明する光源と、上記光学素子を通過し第2の物体を経由して得られるアライメント光を検出する複数の検出光学系と、上記複数の検出光学系の出力を比較する手段と、上記比較手段からの信号を基に第2の物体の位置を調整する手段とを備えた垂直検出装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-220521
  
• 投影型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-017524   Applicant：株式会社ニコン
• 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-360795   Applicant：キヤノン株式会社
• 照明装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-236939   Applicant：株式会社ニコン